اینماد

مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

( در ششمین نمایشگاه تجهیزات) سطح حمایتی : سطح  دوم
تعداد رای: ۰

کد محصول

20818

نام محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

نوع محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی - Thermal Chemical Vapor Deposition - TCVD

دسته بندی محصول

-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی-

مدل

TCVD-2ZL
سقف قیمت مجاز
-
سطح حمایتی
سطح دوم
کاربرد/دامنه کاربرد
- لایه نشانی لایه­ های مختلف مانند ZnO، TiO2، SnO2 بصورت خالص و آلائیده با اتم­های فلزی مختلف2- سنتز نانولوله ­های کربنی با روش رسوبدهی بخارشیمیایی گرمایی (درصورت استفاده از سامانه با خلاء بالا)3- رشد لایه­ های گرافنی با استفاده از رسوبدهی از فاز گازی کربنی در حضور گاز احیاء کننده4- عملیات حرارتی نمونه­های مختلف تا 10 برنامه حرارتی با کنترل شیب حرارتی تحت خلاء و یا عبور (تا 3 نوع گاز مختلف) 5-رشد نانوساختارهای مختلف مانند نانومیله­ها، نانولوله ­ها، نانوگل و... از پودر فلزی و یا پیش ماده گازی
سابقه فروش در نمایشگاه
ندارد

لیست لوازم جانبی

نام حداکثر تعداد مشمول حمایت تصاویر
پمپ خلا روتاری 1 مشاهده
پمپ خلا روتاری دومرحله ای 1 مشاهده
لوله کوارتز-2 1 مشاهده
گیج پیرانی 1 مشاهده
گیج فول رنج 1 مشاهده

تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول

اطلاعات محصول در سایر دوره ها

نظرات

پاسخ به نظــر بازگشت به حالت عادی ثبت نظر

نظر شما
security code