اینماد

مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

( در چهارمین نمایشگاه تجهیزات) سطح حمایتی : سطح  دوم
تعداد رای: ۰

کد محصول

20818

نام محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

نوع محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی - Thermal Chemical Vapor Deposition - TCVD

دسته بندی محصول

-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی-

مدل

ATCVD-2ZL-016
سقف قیمت مجاز
-
سطح حمایتی
سطح دوم
کاربرد/دامنه کاربرد
- لایه نشانی لایه­ های مختلف مانند ZnO، TiO2، SnO2 بصورت خالص و آلائیده با اتم­های فلزی مختلف
2- سنتز نانولوله­های کربنی با روش رسوبدهی بخارشیمیایی گرمایی (درصورت استفاده از سامانه با خلاء بالا)
3- رشد لایه­های گرافنی با استفاده از رسوبدهی از فاز گازی کربنی در حضور گاز احیاء کننده
4- عملیات حرارتی نمونه­های مختلف تا 10 برنامه حرارتی با کنترل شیب حرارتی تحت خلاء و یا عبور (تا 3 نوع گاز مختلف)
5-رشد نانوساختارهای مختلف مانند نانومیله­ها، نانولوله­ها، نانوگل و... از پودر فلزی و یا پیش ماده گازی
سابقه فروش در نمایشگاه
ندارد

لیست لوازم جانبی

نام حداکثر تعداد مشمول حمایت تصاویر
برای این دستگاه هیچ وسیله جانبی ثبت نشده است

تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول

اطلاعات محصول در سایر دوره ها

نظرات

پاسخ به نظــر بازگشت به حالت عادی ثبت نظر

نظر شما
security code