اینماد

مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

( در ششمین نمایشگاه تجهیزات) سطح حمایتی : سطح  دوم
تعداد رای: ۰

کد محصول

20869

نام محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

نوع محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی - Thermal Chemical Vapor Deposition - TCVD

دسته بندی محصول

-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی-

مدل

TCVD-1ZL
سقف قیمت مجاز
-
سطح حمایتی
سطح دوم
کاربرد/دامنه کاربرد
- لایه نشانی لایه­ های مختلف مانند ZnO، TiO2، SnO2 بصورت خالص و آلائیده با اتم­های فلزی مختلف
2- سنتز نانولوله­های کربنی با روش رسوبدهی بخارشیمیایی گرمایی (درصورت استفاده از سامانه با خلاء بالا)
3- رشد لایه­های گرافنی با استفاده از رسوبدهی از فاز گازی کربنی در حضور گاز احیاء کننده
4- عملیات حرارتی نمونه­های مختلف تا 10 برنامه حرارتی با کنترل شیب حرارتی تحت خلاء و یا عبور (تا 3 نوع گاز مختلف)
5-رشد نانوساختارهای مختلف مانند نانومیله­ها، نانولوله­ها، نانوگل و... از پودر فلزی و یا پیش ماده گازی
سابقه فروش در نمایشگاه
ندارد

لیست لوازم جانبی

نام حداکثر تعداد مشمول حمایت تصاویر
پمپ خلا روتاری 1 مشاهده
پمپ خلا روتاری دومرحله ای 1 مشاهده
لوله کوارتز-1 1 مشاهده
گیج پیرانی 1 مشاهده
گیج فول رنج 1 مشاهده

تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول

اطلاعات محصول در سایر دوره ها

نظرات

پاسخ به نظــر بازگشت به حالت عادی ثبت نظر

نظر شما
security code