ورود به کارتابل فروشندگان

کل دوره ها

۱۴۰۲

۱۴۰۱

۱۴۰۰

مشخصات محصول TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (دو منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC)

( در پنجمین نمایشگاه تجهیزات) سطح حمایتی : سطح دوم

content_copy

کپی شد

تعداد رای: ۰

کد محصول

19356

TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (دو منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC)

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی - Thermal Chemical Vapor Deposition - TCVD

-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی-

TKS- TCVD1200-IIZ-3MFC

سقف قیمت مجاز

سطح حمایتی

سطح دوم

کاربرد/دامنه کاربرد

تولید پوشش ها و نانوساختارهاتولید نانو میله ها و نانو لوله هاتولید انواع پودرهانفوذ حرارتی در نیمه هادی هاکاربردهای کوره های خلأ

سابقه فروش در نمایشگاه

ندارد

دانلود مستندات

نیاز به نصب, راه اندازی و آموزش دارد

نام	حداکثر تعداد مشمول حمایت	تصاویر
دستکش نسوز	1	مشاهده
قایقک آلومینایی 1700 درجه 100 × 45 × 15 جهت کوره های تیوبی و سیستم های CVD	1	مشاهده مشاهده مشاهده مشاهده مشاهده مشاهده
قایقک کوارتزی 1100 درجه 100×40×20 جهت سیستم های CVD و کوره های تیوبی 1200 درجه	1	مشاهده مشاهده مشاهده
بلوک عایق حرارتی کوارتزی جهت سیستم های CVD و کوره های تیوبی 1200 درجه	1	مشاهده مشاهده مشاهده مشاهده
تیوب کوارتزی یدکی جهت CVD و کوره 1200 درجه دو منطقه	1	مشاهده مشاهده مشاهده
کپسول گاز آرگون خلوص آزمایشگاهی همراه با رگولاتور و چرخ حمل	1	مشاهده
کپسول گاز نیتروژن با خلوص آزمایشگاهی همراه با رگولاتور و چرخ حمل	1	مشاهده
دمنده مایع جهت سیستم های CVD و PECVD	1	مشاهده مشاهده
دام سرد نیتروژن مایع جهت سیستم های CVD و PECVD	1	مشاهده مشاهده مشاهده مشاهده
فیلتر خروجی پمپ روتاری (جهت کلیه کوره های خلاء)	1	مشاهده مشاهده مشاهده
کنترل کننده شار جرمی سیال گاز با بیشینه 10 و 30 sccm به همراه نمایشگر	1	مشاهده مشاهده

لوگو	نام
	شرکت تعاونی تسنیم کیمیای سیستم
	شرکت پژوهشگران نانو فناوری
	شرکت مهندسی تجهیزات پیشرفته آدنا دیاکو فناور
	شرکت آروین رایا کاران