ورود به کارتابل خریداران
- صفحه اصلی
- اخبار
- معرفی نمایشگاه
- فروشندگان یا غرفه داران
- خریداران یا بازدیدکنندگان
- تماس با ما
- سوالات پر تکرار
- طرح لیزینگ
- سرویس ارتباط با مخاطبین (CRM)
| کد | آخرین حضور | دسته بندی | نوع محصول | نام | مدل | سطح حمایتی | سقف قیمت مجاز (ریال) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 9095 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما | PECVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار به روش پلاسمایی/حرارتی 1500 درجه | TKS-PECVD-RF Inductive-1500 | سطح اول | ||
| 9082 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (تک منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC) | TKS- TCVD 1200-IZ-3MFC | سطح دوم | ||
| 19350 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1500 درجه (دو منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط روتامتر) | TKS- TCVD1500-IIZ-3R | سطح دوم | ||
| 19351 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1700 درجه (قطر 5 سانتیمتر/تحت خلاء/کنترل گاز توسط روتامتر) | TKS- TCVD1700-Mini-3R | سطح دوم | ||
| 19353 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (قطر 5 سانتیمتر/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC) | TKS-TCVD1200-Mini-3MFC | سطح دوم | ||
| 19356 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (دو منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC) | TKS- TCVD1200-IIZ-3MFC | سطح دوم | ||
| 19360 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1500 درجه (قطر 5 سانتیمتر/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC) | TKS- TCVD1500-Mini-3MFC | سطح دوم | ||
| 19362 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1500 درجه (دو منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC) | TKS- TCVD1500-IIZ-3MFC | سطح دوم | ||
| 19363 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1700 درجه (قطر 5 سانتیمتر/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC) | TKS- TCVD1700-Mini-3MFC | سطح دوم | ||
| 19367 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1700 درجه (دو منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط روتامتر) | TKS- TCVD1700-IIZ-3R | سطح دوم | ||
| 19902 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (قطر 5 سانتیمتر/تحت خلاء/کنترل گاز توسط روتامتر) | TKS-TCVD1200-Mini-3R | سطح دوم | ||
| 19904 | پنجمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (دو منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط روتامتر) | TKS- TCVD1200-IIZ-3R | سطح دوم |