ورود به کارتابل خریداران
- صفحه اصلی
- اخبار
- معرفی نمایشگاه
- فروشندگان یا غرفه داران
- خریداران یا بازدیدکنندگان
- تماس با ما
- سوالات پر تکرار
- سرویس ارتباط با مخاطبین (CRM)
کد | آخرین حضور | دسته بندی | نوع محصول | نام | مدل | سطح حمایتی | سقف قیمت مجاز (ریال) |
---|---|---|---|---|---|---|---|
19343 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | کوره خلاء | HV-کوره خلاء بالای تیوبی قطر 8 سانتیمتر دو منطقه 1200 درجه (PID/نمایشگر لمسی/تیوب و فلنج/هدایا) | TKS-TF1200-IIZ-HV | سطح دوم | ||
19341 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | کوره خلاء | HV-کوره خلاء بالای تیوبی قطر 5 سانتیمتر 1200 درجه با پمپ توربومولکولار (PID/نمایشگر لمسی/تیوب و فلنج/هدایا) | TKS-TF1200-Mini-HV | سطح دوم | ||
19340 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | کوره خلاء | V-کوره خلاء تیوبی قطر 5 سانتیمتر 1700 درجه (PID/نمایشگر لمسی/تیوب و فلنج/هدایا) | TKS-TF1700-Mini-V | سطح دوم | ||
19339 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | کوره خلاء | V-کوره خلاء تیوبی قطر 5 سانتیمتر 1500 درجه (PID/نمایشگر لمسی/تیوب و فلنج/هدایا) | TKS-TF1500-Mini-V | سطح دوم | ||
9095 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما | PECVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار به روش پلاسمایی/حرارتی 1500 درجه | TKS-PECVD-RF Inductive-1500 | سطح اول | ||
9093 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما | PECVD - سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار به روش پلاسمایی/حرارتی 1200 درجه | TKS-PECVD-RF Inductive-1200 | سطح اول | ||
21563 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1700 درجه (دو منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC) | TKS- TCVD1700-IIZ-3MFC | سطح دوم | ||
19909 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1500 درجه (قطر 5 سانتیمتر/تحت خلاء/کنترل گاز توسط روتامتر) | TKS- TCVD1500-Mini-3R | سطح دوم | ||
19906 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (سه منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط روتامتر) | TKS- TCVD1200-IIIZ-3R | سطح دوم | ||
19904 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (دو منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط روتامتر) | TKS- TCVD1200-IIZ-3R | سطح دوم | ||
19902 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (قطر 5 سانتیمتر/تحت خلاء/کنترل گاز توسط روتامتر) | TKS-TCVD1200-Mini-3R | سطح دوم | ||
9082 | چهارمین نمایشگاه تجهیزات | رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی | TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (تک منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC) | TKS- TCVD 1200-IZ-3MFC | سطح دوم |