مشخصات محصول کوره رشد اکسید و نفوذ

( در یازدهمین نمایشگاه تجهیزات) افزودن به علاقه مندی ها ارسال درخواست صدور پیش فاکتور

content_copy

کپی شد

تعداد رای: ۰

کد محصول

5842

نام محصول

کوره رشد اکسید و نفوذ

نوع محصول

لایه‌نشانی تبخیر حرارتی - Thermal Evaporation - -

دسته بندی محصول

-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب فیزیکی بخار-لایه نشانی به روش فیزیکی تبخیر حرارتی-

مدل

PC200

تولید کننده

شرکت رشد نانو فناوران

سقف قیمت مجاز

سطح حمایتی

سطح دوم

کاربرد/دامنه کاربرد

رشد اکسید سیلیکون بر روی بستر سیلیکون در دمای ۱۱۰۰ درجه

سابقه فروش در نمایشگاه

دارد مشاهده خریداران این محصول

دانلود مستندات

کاتالوگ محصول شرایط گارانتی ‫شرایط محیطی لازم برای نصب و راه‬‫اندازی و نگهداری

نیاز به نصب, راه اندازی و آموزش دارد

لیست لوازم جانبی

نام	حداکثر تعداد مشمول حمایت	تصاویر
برای این دستگاه هیچ وسیله جانبی ثبت نشده است

تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول

لوگو	نام
	شرکت رشد نانو فناوران

اطلاعات محصول در سایر دوره ها

مشاهده محصول کوره رشد اکسید و نفوذ در یازدهمین نمایشگاه تجهیزات

مشاهده محصول کوره رشد اکسید و نفوذ در دهمین نمایشگاه تجهیزات

مشاهده محصول کوره رشد اکسید و نفوذ در نهمین نمایشگاه تجهیزات

مشاهده محصول کوره رشد اکسید و نفوذ در هشتمین نمایشگاه تجهیزات

مشاهده محصول کوره رشد اکسید و نفوذ در هفتمین نمایشگاه تجهیزات

مشاهده محصول کوره رشد اکسید و نفوذ در ششمین نمایشگاه تجهیزات

مشاهده محصول کوره رشد اکسید و نفوذ در پنجمین نمایشگاه تجهیزات

مشاهده محصول کوره رشد اکسید و نفوذ در چهارمین نمایشگاه تجهیزات

مشاهده محصول کوره رشد اکسید و نفوذ در سومین نمایشگاه تجهیزات