مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی
( در ششمین نمایشگاه تجهیزات)
کد محصول
20818
نام محصول
رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی
نوع محصول
رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی - Thermal Chemical Vapor Deposition - TCVD
دسته بندی محصول
-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی-
مدل
TCVD-2ZL
تولید کننده
سقف قیمت مجاز
-
سطح حمایتی
سطح دوم
کاربرد/دامنه کاربرد
- لایه نشانی لایه های مختلف مانند ZnO، TiO2، SnO2 بصورت خالص و آلائیده با اتمهای فلزی مختلف2- سنتز نانولوله های کربنی با روش رسوبدهی بخارشیمیایی گرمایی (درصورت استفاده از سامانه با خلاء بالا)3- رشد لایه های گرافنی با استفاده از رسوبدهی از فاز گازی کربنی در حضور گاز احیاء کننده4- عملیات حرارتی نمونههای مختلف تا 10 برنامه حرارتی با کنترل شیب حرارتی تحت خلاء و یا عبور (تا 3 نوع گاز مختلف) 5-رشد نانوساختارهای مختلف مانند نانومیلهها، نانولوله ها، نانوگل و... از پودر فلزی و یا پیش ماده گازی
سابقه فروش در نمایشگاه
ندارد
لیست لوازم جانبی
| نام | حداکثر تعداد مشمول حمایت |
|---|---|
| پمپ خلا روتاری | 1 |
| پمپ خلا روتاری دومرحله ای | 1 |
| لوله کوارتز-2 | 1 |
| گیج پیرانی | 1 |
| گیج فول رنج | 1 |
تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول
| لوگو | نام |
|---|---|
|
|
شرکت پژوهشگران نانو فناوری |
|
|
شرکت مهندسی تجهیزات پیشرفته آدنا دیاکو فناور |
اطلاعات محصول در سایر دوره ها
برای مشاهده ی جزئیات بیشتر، لطفا برروی مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی کلیک کنید.