مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

( در ششمین نمایشگاه تجهیزات) سطح حمایتی : سطح  دوم
تعداد رای: ۰

کد محصول

20818

نام محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

نوع محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی - Thermal Chemical Vapor Deposition - TCVD

دسته بندی محصول

-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی-

مدل

TCVD-2ZL
سقف قیمت مجاز
-
سطح حمایتی
سطح دوم
کاربرد/دامنه کاربرد
- لایه نشانی لایه­ های مختلف مانند ZnO، TiO2، SnO2 بصورت خالص و آلائیده با اتم­های فلزی مختلف2- سنتز نانولوله ­های کربنی با روش رسوبدهی بخارشیمیایی گرمایی (درصورت استفاده از سامانه با خلاء بالا)3- رشد لایه­ های گرافنی با استفاده از رسوبدهی از فاز گازی کربنی در حضور گاز احیاء کننده4- عملیات حرارتی نمونه­های مختلف تا 10 برنامه حرارتی با کنترل شیب حرارتی تحت خلاء و یا عبور (تا 3 نوع گاز مختلف) 5-رشد نانوساختارهای مختلف مانند نانومیله­ها، نانولوله ­ها، نانوگل و... از پودر فلزی و یا پیش ماده گازی
سابقه فروش در نمایشگاه
ندارد

لیست لوازم جانبی

نام حداکثر تعداد مشمول حمایت تصاویر
پمپ خلا روتاری 1 مشاهده
پمپ خلا روتاری دومرحله ای 1 مشاهده
لوله کوارتز-2 1 مشاهده
گیج پیرانی 1 مشاهده
گیج فول رنج 1 مشاهده

تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول

لوگو نام
شرکت مهندسی تجهیزات پیشرفته آدنا دیاکو فناور شرکت مهندسی تجهیزات پیشرفته آدنا دیاکو فناور
شرکت پژوهشگران نانو فناوری شرکت پژوهشگران نانو فناوری

اطلاعات محصول در دوره های قبل

نظرات

پاسخ به نظــر بازگشت به حالت عادی ثبت نظر

نظر شما
security code