مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی
( در ششمین نمایشگاه تجهیزات)کد محصول
9438
نام محصول
رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی
نوع محصول
رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی - Thermal Chemical Vapor Deposition - TCVD
دسته بندی محصول
-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی-
مدل
TCVD-3ZE
تولید کننده
سقف قیمت مجاز
-
سطح حمایتی
سطح دوم
کاربرد/دامنه کاربرد
1- لایه نشانی لایه های مختلف مانند ZnO، TiO2، SnO2 بصورت خالص و آلائیده با اتمهای فلزی مختلف
2- سنتز نانولولههای کربنی با روش رسوبدهی بخارشیمیایی گرمایی (درصورت استفاده از سامانه با خلاء بالا)
3- رشد لایههای گرافنی با استفاده از رسوبدهی از فاز گازی کربنی در حضور گاز احیاء کننده
4- عملیات حرارتی نمونههای مختلف تا 10 برنامه حرارتی با کنترل شیب حرارتی تحت خلاء و یا عبور (تا 3 نوع گاز مختلف)
5-رشد نانوساختارهای مختلف مانند نانومیلهها، نانولولهها، نانوگل و... از پودر فلزی و یا پیش ماده گازی
سابقه فروش در نمایشگاه
لیست لوازم جانبی
نام | حداکثر تعداد مشمول حمایت |
---|---|
پمپ خلا روتاری | 1 |
پمپ خلا روتاری دومرحله ای | 1 |
لوله کوارتز-3 | 1 |
گیج پیرانی | 1 |
گیج فول رنج | 1 |
تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول
لوگو | نام |
---|---|
|
شرکت مهندسی تجهیزات پیشرفته آدنا دیاکو فناور |
|
شرکت پژوهشگران نانو فناوری |
اطلاعات محصول در سایر دوره ها
برای مشاهده ی جزئیات بیشتر، لطفا برروی مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی کلیک کنید.