مشخصات محصول PECVD - سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار به روش پلاسمایی/حرارتی 1200 درجه

( در پنجمین نمایشگاه تجهیزات)

کد محصول

9093

PECVD - سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار به روش پلاسمایی/حرارتی 1200 درجه

رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition - PECVD

-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-لایه نشانی پلاسما-رسوب شیمیایی بخار به کمک پلاسما-

TKS-PECVD-RF Inductive-1200

سقف قیمت مجاز

سطح حمایتی

سطح اول

کاربرد/دامنه کاربرد

تولید پوشش ها و نانوساختارهاتولید نانو میله ها و نانو لوله هاتولید انواع پودرهانفوذ حرارتی در نیمه هادی هاکاربردهای کوره های خلأ

سابقه فروش در نمایشگاه

دارد مشاهده خریداران این محصول

دانلود مستندات

نیاز به نصب, راه اندازی و آموزش دارد

نام	حداکثر تعداد مشمول حمایت
دستکش نسوز	2
قایقک آلومینایی 1700 درجه 100 × 45 × 15 جهت کوره های تیوبی و سیستم های CVD	10
قایقک کوارتزی 1100 درجه 100×40×20 جهت سیستم های CVD و کوره های تیوبی 1200 درجه	5
تیوب کوارتزی یدکی جهت CVD و کوره 1200 درجه سه منطقه	3
کپسول گاز آرگون خلوص آزمایشگاهی همراه با رگولاتور و چرخ حمل	1
کپسول گاز نیتروژن با خلوص آزمایشگاهی همراه با رگولاتور و چرخ حمل	1
فیلتر خروجی پمپ روتاری (جهت کلیه کوره های خلاء)	1
دمنده مایع جهت سیستم های CVD و PECVD	1
دام سرد نیتروژن مایع جهت سیستم های CVD و PECVD	1
کنترل کننده شار جرمی سیال گاز با بیشینه 10 و 30 sccm به همراه نمایشگر	2

لوگو	نام
	شرکت رشد نانو فناوران
	شرکت تعاونی تسنیم کیمیای سیستم
	شرکت پلاسمافناورامین