ثبت نام خریدار
ثبت نام اولیه فروشندگان

مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

( در ششمین نمایشگاه تجهیزات)

کد محصول

20793

نام محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی

نوع محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی - Thermal Chemical Vapor Deposition - TCVD

دسته بندی محصول

-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی-

مدل

TCVD-2ZE

تولید کننده

سقف قیمت مجاز
-
سطح حمایتی
سطح دوم
کاربرد/دامنه کاربرد
1- لایه نشانی لایه­ های مختلف مانند ZnO، TiO2، SnO2 بصورت خالص و آلائیده با اتم­های فلزی مختلف 2- سنتز نانولوله­های کربنی با روش رسوبدهی بخارشیمیایی گرمایی (درصورت استفاده از سامانه با خلاء بالا) 3- رشد لایه­های گرافنی با استفاده از رسوبدهی از فاز گازی کربنی در حضور گاز احیاء کننده 4- عملیات حرارتی نمونه­های مختلف تا 10 برنامه حرارتی با کنترل شیب حرارتی تحت خلاء و یا عبور (تا 3 نوع گاز مختلف) 5-رشد نانوساختارهای مختلف مانند نانومیله­ها، نانولوله­ها، نانوگل و... از پودر فلزی و یا پیش ماده گازی
سابقه فروش در نمایشگاه
ندارد
دانلود مستندات

لیست لوازم جانبی

نام حداکثر تعداد مشمول حمایت
پمپ خلا روتاری 1
پمپ خلا روتاری دومرحله ای 1
لوله کوارتز-2 1
گیج پیرانی 1
گیج فول رنج 1

تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول

لوگو نام
شرکت مهندسی تجهیزات پیشرفته آدنا دیاکو فناور
شرکت پژوهشگران نانو فناوری

اطلاعات محصول در سایر دوره ها

برای مشاهده ی جزئیات بیشتر، لطفا برروی مشخصات محصول رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی کلیک کنید.