ثبت نام خریدار
ثبت نام اولیه فروشندگان

مشخصات محصول TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (سه منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC)

( در چهارمین نمایشگاه تجهیزات)

کد محصول

19358

نام محصول

TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (سه منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC)

نوع محصول

رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی - Thermal Chemical Vapor Deposition - TCVD

دسته بندی محصول

-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار به روش حرارتی-

مدل

TKS- TCVD1200-IIIZ-3MFC

تولید کننده

سقف قیمت مجاز
-
سطح حمایتی
سطح دوم
کاربرد/دامنه کاربرد
تولید پوشش ها و نانوساختارها تولید نانو میله ها و نانو لوله ها تولید انواع پودرها نفوذ حرارتی در نیمه هادی ها کاربردهای کوره های خلأ
سابقه فروش در نمایشگاه
ندارد
دانلود مستندات

لیست لوازم جانبی

نام حداکثر تعداد مشمول حمایت
دستکش نسوز 1
کپسول گاز نیتروژن با خلوص آزمایشگاهی همراه با رگولاتور و چرخ حمل 1
کپسول گاز آرگون خلوص آزمایشگاهی همراه با رگولاتور و چرخ حمل 1
قایقک کوارتزی 1100 درجه 100×40×20 جهت سیستم های CVD و کوره های تیوبی 1200 درجه 1
قایقک آلومینایی 1700 درجه 100 × 45 × 15 جهت کوره های تیوبی و سیستم های CVD 1
بلوک عایق حرارتی کوارتزی جهت سیستم های CVD و کوره های تیوبی 1200 درجه 1
تیوب کوارتزی یدکی جهت CVD و کوره 1200 درجه سه منطقه 1
دمنده مایع جهت سیستم های CVD و PECVD 1
دام سرد نیتروژن مایع جهت سیستم های CVD و PECVD 1
فیلتر خروجی پمپ روتاری (جهت کلیه کوره های خلاء) 1

تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول

لوگو نام
شرکت مهندسی تجهیزات پیشرفته آدنا دیاکو فناور
شرکت تعاونی تسنیم کیمیای سیستم
شرکت آروین رایا کاران
شرکت پژوهشگران نانو فناوری

اطلاعات محصول در سایر دوره ها

برای مشاهده ی جزئیات بیشتر، لطفا برروی مشخصات محصول TCVD-سیستم لایه نشانی رسوب شیمیایی بخار 1200 درجه (سه منطقه/تحت خلاء/کنترل گاز توسط MFC) کلیک کنید.