مشخصات محصول Low Pressure CVD - Full System
( در دهمین نمایشگاه تجهیزات)
کد محصول
1781
نام محصول
Low Pressure CVD - Full System
نوع محصول
رسوب شیمیایی بخار - Chemical Vapor Deposition - CVD
دسته بندی محصول
-مهندسی و علم مواد-تجهیزات لایه نشانی-رسوب شیمیایی بخار-رسوب شیمیایی بخار-
مدل
LP-CVD 420 Full
تولید کننده
سقف قیمت مجاز
-
کاربرد/دامنه کاربرد
سنتز نانو ساختارهای گوناگون از جمله نانو ساختارهای یک بعدی اکسیدها و نیتریدهای فلزی، نانو لوله های کربنی و نانو ذرات گوناگون
سابقه فروش در نمایشگاه
لیست لوازم جانبی
| نام | حداکثر تعداد مشمول حمایت | ||
|---|---|---|---|
| برای این دستگاه هیچ وسیله جانبی ثبت نشده است | |||
تولید کنندگان مشابه بر اساس نوع محصول
| لوگو | نام |
|---|---|
|
|
شرکت رشد نانو فناوران |
|
|
شرکت یاران بهگزین پارسا |
اطلاعات محصول در سایر دوره ها
تایید فنی شده است (حضور قطعی نشده )
تایید فنی شده است (حضور قطعی نشده )
تایید فنی شده است (حضور قطعی نشده )
برای مشاهده ی جزئیات بیشتر، لطفا برروی مشخصات محصول Low Pressure CVD - Full System کلیک کنید.